一种三维光波导及其制作方法

摘要

本发明涉及一种三维光波导结构及其制作方法，三维光波导结构为采方向，在和波导转播垂直的方向上制作和波导平面成±45°的侧面反射膜，且各个反射面互相垂直，在硅片结构表面上依次制作波导下包层、第一层芯层结构、隔离层、第二层芯层结构、上包层。该结构采用硅的微机械加工和平面光波导制作这两种相对成熟技术来制作，制作方法比较简单。由于在硅单晶基片上制作正交的高反射结构，可以实现上下层光波导的光路通光，克服了普通平面光波导只能是单层结构或层与层之间难以互通的限制，从而大大提高了单位面积平面光波导器件的密度，在光波导器件的小型化、集成化上有明显的突破。

主权项

1、一种三维光波导，主要包括：硅片(1)、反射膜(7)和多层平面光波导结构，其特征在于：硅片(1)采用的是单晶硅片，其晶片表面为{100}面，侧向切边方向为<100>方向，在和波导传播垂直的方向上制作和波导平面成±45°的侧面反射膜(7)，且各个反射面互相垂直，在硅片结构表面上依次制作波导下包层(8-1)、第一层芯层结构(8-2)、隔离层(8-3)、第二层芯层结构(8-4)、上包层(8-5)。