发明名称 | 透镜装置 | ||
摘要 | 一种透镜装置,其中,透镜元件的第一和第二阵列位于该装置的第一和第二表面上。设置第一和第二阵列,因此,当穿过第一阵列观察第二阵列时,可看到表示代表第二阵列的一个元件的放大图像的莫尔图案。至少一个阵列可包括至少一个预定的可识别的不连续变化,该变化是对应于阵列相邻元件的相同特征的阵列的至少一个元件的特征。至少一个元件可包括向至少一个元件提供横截面的凸起,该横截面与其上形成至少一个元件的表面平行,与穿过不包括所述凸起的至少一个元件的部分的平行横截面相比,其形状是不规则的。至少一个预定的并可识别的缺陷可被编码于至少一个第一和第二阵列中,对于独立观察者而言,缺陷基本上是难以分辨的。 | ||
申请公布号 | CN1222811C | 申请公布日期 | 2005.10.12 |
申请号 | CN00803044.8 | 申请日期 | 2000.09.21 |
申请人 | 皇家菲利浦电子有限公司 | 发明人 | M·J·J·多纳;J·J·M·布拉尔特 |
分类号 | G02B27/22;G02B27/60 | 主分类号 | G02B27/22 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 陈霁;傅康 |
主权项 | 1.一种透镜装置,包括:在该装置的第一表面上的第一透镜元件阵列,所述第一透镜元件阵列中的每个透镜元件都具有与所述第一表面平行的大致为圆形的横截面;和在该装置的第二表面上的第二透镜元件阵列,所述第二透镜元件阵列中的每个透镜元件都具有与所述第二表面平行的大致为圆形的横截面,其中,该第一和第二阵列如此设置,以致当穿过第一阵列观察第二阵列时,可看到表示代表第二阵列元件的放大图像的莫尔图案,其特征在于:至少一个所述阵列包括至少一个预定的可检验的不连续变化,该变化是对应于该阵列相邻元件的相同特性而言该阵列的至少一个元件的特性变化。 | ||
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |