| 发明名称 | 对基质进行真空处理的设备 | ||
| 摘要 | 该设备的特征在于由几个独立的并且排列成行的模块(M)组成，每个模块包括一个真空处理室(C)和一个带有基质转移装置的转移室(B)，转移装置把基质转移到其中一个室中，或者从一个室转移到下游或上游的直接在至少一个模块旁边或与该模块分开的另一个室中，使得一个基质在一个室内进行一种特殊处理期间，另一个基质可以转移到另一个室内，以便进行另一个处理。 | ||
| 申请公布号 | CN1681962A | 申请公布日期 | 2005.10.12 |
| 申请号 | CN03821982.4 | 申请日期 | 2003.07.23 |
| 申请人 | 泰克玛西纳股份有限公司 | 发明人 | 吉勒·富尔宗;让－马克·普瓦尔松 |
| 分类号 | C23C14/56;C23C16/54;H01L21/00 | 主分类号 | C23C14/56 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 余全平 |
| 主权项 | 1.特别用于基质(S)的真空处理的设备，其特征在于，该设备由多个独立的并且排列成行的模块(M)组成，每个模块包括一真空处理室(C)和一带有基质转移装置的转移室(B)，所述转移装置把基质转移到其中一个室中，或者从一个室转移到下游或上游的直接在至少一个模块旁边或与该模块分开的另一个室中，使得一个基质在一个室内进行一种特殊处理期间，另一个基质可以转移到另一个室内，以便进行另一个处理。 | ||
| 地址 | 法国昂德雷济约布泰翁 | ||