| 发明名称 | 釉面砖 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种釉面砖，特别是经过抛光处理的釉面砖。在基板上覆盖有经过抛光处理的釉面层。经过抛光处理的釉面层覆盖在基板的上表面和四周。经过抛光处理的釉面光滑细腻、视觉、质感强烈，不存在任何吸污缺点，并且色彩、图案都能具备。 | ||
| 申请公布号 | CN2732891Y | 申请公布日期 | 2005.10.12 |
| 申请号 | CN200420112201.2 | 申请日期 | 2004.10.28 |
| 申请人 | 蒲鼎新 | 发明人 | 蒲鼎新 |
| 分类号 | E04F13/14 | 主分类号 | E04F13/14 |
| 代理机构 | 中国商标专利事务所有限公司 | 代理人 | 万学堂 |
| 主权项 | 1、釉面砖，其特征在于：在基板(1)上覆盖有经过抛光处理的釉面层(2)。 | ||
| 地址 | 528000广东省佛山市江湾三路13号 | ||