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经营范围
发明名称
Isolation Layer of Semiconductor Device and manufacturing process thereof
摘要
申请公布号
KR100521449(B1)
申请公布日期
2005.10.12
申请号
KR20030101891
申请日期
2003.12.31
申请人
发明人
分类号
H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/762
主分类号
H01L21/762
代理机构
代理人
主权项
地址
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