发明名称 | 针状硅结晶及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明涉及针状硅结晶及其制造方法,更详细地说,涉及适用于纳米技术的纳米大小的具有尖锐形状的针状硅结晶、及可在硅基板面上大量形成该针状硅结晶的制造方法。本发明为超微小的针状硅结晶,其尖端为曲率半径1nm以上20nm以下的尖细状,其具有底面直径是10nm以上、且高度为底面直径的1倍以上的近乎圆锥状的尖锐的形状,通过使用了催化剂的等离子体CVD法,在硅基板表面上均匀地、且相对该基板面垂直地取向、形成该针状硅结晶。由此可以重现性良好地在希望的地方均质且大量地形成针状硅结晶。 | ||
申请公布号 | CN1681977A | 申请公布日期 | 2005.10.12 |
申请号 | CN03822462.3 | 申请日期 | 2003.09.04 |
申请人 | 东芝陶瓷株式会社;株式会社科技网络四国 | 发明人 | 八田章光;吉村纮明;石元启一;铁艸浩彰;川越伸一 |
分类号 | C30B29/62 | 主分类号 | C30B29/62 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 郭煜;王景朝 |
主权项 | 1.一种针状硅结晶,其特征在于,尖端是曲率半径为1nm以上20nm以下的尖细状,为底面直径是10nm以上、且高度为底面直径的1倍以上的近乎圆锥状。 | ||
地址 | 日本东京都 |