发明名称 针状硅结晶及其制造方法
摘要 本发明涉及针状硅结晶及其制造方法,更详细地说,涉及适用于纳米技术的纳米大小的具有尖锐形状的针状硅结晶、及可在硅基板面上大量形成该针状硅结晶的制造方法。本发明为超微小的针状硅结晶,其尖端为曲率半径1nm以上20nm以下的尖细状,其具有底面直径是10nm以上、且高度为底面直径的1倍以上的近乎圆锥状的尖锐的形状,通过使用了催化剂的等离子体CVD法,在硅基板表面上均匀地、且相对该基板面垂直地取向、形成该针状硅结晶。由此可以重现性良好地在希望的地方均质且大量地形成针状硅结晶。
申请公布号 CN1681977A 申请公布日期 2005.10.12
申请号 CN03822462.3 申请日期 2003.09.04
申请人 东芝陶瓷株式会社;株式会社科技网络四国 发明人 八田章光;吉村纮明;石元启一;铁艸浩彰;川越伸一
分类号 C30B29/62 主分类号 C30B29/62
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 郭煜;王景朝
主权项 1.一种针状硅结晶,其特征在于,尖端是曲率半径为1nm以上20nm以下的尖细状,为底面直径是10nm以上、且高度为底面直径的1倍以上的近乎圆锥状。
地址 日本东京都