| 主权项 |
1.一种微透镜阵列,其包含多个单位小格以及多个微透镜,每一单位小格一个微透镜,其中:(a)阵列之聚焦效率至少为75%;以及(b)至少两个微透镜彼此随机地不相同。2.依据申请专利范围第1项之微透镜阵列,其中阵列之聚焦效率至少为85%。3.依据申请专利范围第1项之微透镜阵列,其中阵列之聚焦效率至少为95%。4.依据申请专利范围第1项之微透镜阵列,其中阵列之填充系数至少为90%。5.依据申请专利范围第1项之微透镜阵列,其中阵列之填充系数至少为95%。6.依据申请专利范围第1项之微透镜阵列,其中阵列之填充系数为100%。7.依据申请专利范围第1项之微透镜阵列,其中微透镜为凸出微透镜。8.依据申请专利范围第1项之微透镜阵列,其中至少一些微透镜为变形的。9.依据申请专利范围第1项之微透镜阵列,其中单位小格为紧密的排列。图式简单说明:第一图(图1)为填充系数小于100%之透镜阵列顶视图。第二图(图2)显示出玻璃基质,其具有光阻剂薄膜沉积于其表面上。第三图(图3)显示出雷射光束扫描于光敏性薄膜上,其产生不同化学特性之区域(潜变影像)。第四图A及B(图4A及4B)显示出制造凸出结构中之卷旋效应。第五图A及B(图5A及5B)分别地显示出呈现为凸出以及凹下阵列关系之坚硬制造器具的相互作用。第六图(图6)显示出一种技术以估计一个阵列之微透镜单元的聚焦效率,其以凸出形式制造出。第七图A及B(图7A及7B)分别地显示出以凸出以及凹下形式制造出之相同微透镜分布的实验图。第八图及第九图(图8及图9)显示出在正光阻剂中所形成凹下凹腔之表面浮凸结构,其中凹腔边缘之边界对准于光阻剂之顶部表面。第十图A, B, C(图10A, 10B及10C)显示出具有凹下凹腔之初始铸模的复制以得到最终之凹下微透镜。 |
