| 主权项 |
1.一种投影机,包括:光源装置,其包括:光源灯,反射器,用以反射自该光源灯所射出之光,及透光性之前面板,设置于该反射器之开口面;电光学装置,按照影像资料调变来自该光源装置之光;投影光学系,将在该电光学装置所得到之调变光束投影;以及冷却装置,用以强迫性冷却该反射器,其特征在于:该反射器使用在20℃之导热系数约0.005(cal/cm.sec.deg)以上之陶磁形成。2.如申请专利范围第1项所述之投影机,其中该陶磁在约0℃~200℃之范围之导热系数系约0.004(cal/cm.sec.deg)以上。3.如申请专利范围第2项所述之投影机,其中该陶磁用自Al2O3、2MgO.SiO2、MgO.SiO2、ZrO2.SiO2、TiO2系化合物、SiC、Si3N4、ZrO2以及金属陶磁之中所选择之其中一种材料构成。4.如申请专利范围第1项所述之投影机,其中还包括用以令该光源灯发光之电源。5.如申请专利范围第1项所述之投影机,其中还包括用以供给该电光学装置影像资料后驱动之驱动部。图式简单说明:图1系应用了本创作之光源装置120之立体图。图2系表示图1之光源装置120之内部构造之说明图。图3系表示在反射器124可利用之陶磁材料之例子之说明图。图4系表示对于各种陶磁材料之导热系数之温度特性之图形。图5系表示应用了本创作之反射器之一例之概略构造图。 |
