发明名称 粒子形成方法及彼之产物
摘要 藉下述方法来制备在其表面具有一添加剂层的活性物质的粒子:将活性物质和添加剂二者溶于一载剂中以形成一标的溶液,并利用SEDSTM粒子形成法,将标的溶液与一抗-溶剂流体接触以使活性物质和添加剂沈淀下来。该添加剂通常系一种保护性添加剂,尤其是一种味道及/或气味掩盖剂。本发明也提供一种藉此方法制成之微粒共同配制品,其在相关添加剂浓度中具有限之梯度,此添加剂之梯度浓度从富含活性物质之粒子核心呈放射状向外朝富含添加剂之表面增加。
申请公布号 TWI241198 申请公布日期 2005.10.11
申请号 TW090127442 申请日期 2001.11.05
申请人 尼可塔疗法有限公司 发明人 玛森 翰纳;彼德 约克
分类号 A61K9/00 主分类号 A61K9/00
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种用于制备活性物质之粒子的方法,该种粒子在其表面具有一添加剂层,此方法包括将活性物质和添加剂二者溶于溶剂流体载剂中以形成一标的溶液,并将此标的溶液利用SEDSTM粒子形成法与一超临界或接近临界流体之抗-溶剂接触,以让活性物质和添加剂以微粒之形态共同沈淀,该微粒含1至80%w/w之添加剂,其中:(i)抗-溶剂之流速为能确保当该抗-溶剂与标的溶液接触时,抗-溶剂流体量会超过标的溶液量;(ii)该SEDSTM法系在一温度与压力中进行,其须足以确保在微粒形成步骤期间,该抗-溶剂由标的溶液中萃取载剂时,所形成之流体混合物能保持在超临界或接近临界状态;(iii)该活性物质之沈淀速率在所使用之操作条件下会高于添加剂之沈淀速率;(iv)该活性物质及添加剂彼此间具低相容性。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该添加剂系一种味道及/或气味掩盖剂。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该活性物质含有一制药上活性的物质。4.如申请专利范围第1项、第2项或第3项之方法,其中该活性物质系溶于第一种流体中,而该添加剂系溶于第二种流体中,将第一种和第二种流体混合在一起以形成标的溶液,此标的溶液系在形成时或形成后立即与抗-溶剂流体接触,并发生沈淀作用。5.如申请专利范围第1项、第2项或第3项之方法,其中该抗-溶剂流体系一种超临界流体。6.如申请专利范围第4项之方法,其中该二种载剂流体在所使用之操作条件下,于抗-溶剂流体中具有显着不同的溶解度。7.如申请专利范围第4项之方法,其中该活性物质在第一种载剂流体中之溶解度显着低于该添加剂在第二种载剂流体中之溶解度。8.如申请专利范围第1项、第2项或第3项之方法,其中,在所使用之操作条件下,该活性物质系以结晶型沈淀下来,而该添加剂系以非结晶型沈淀下来。9.如申请专利范围第1项、第2项或第3项之方法,其中,在所使用之操作条件下,该活性物质系以其中一方位显着长于至少另一方位的结晶型沈淀下来,且/或其结晶在一方位之生成速率显着快于至少另一方位之生成速率。10.如申请专利范围第1项、第2项或第3项之方法,其中该添加剂在所使用之操作条件下,于抗-溶剂流体中具有显着高于该活性物质所具之溶解度。11.如申请专利范围第1项、第2项或第3项之方法,其中该活性物质及添加剂在彼此中之溶解度低于30%w/w。12.如申请专利范围第1项、第2项或第3项之方法,其中在对各活性物质及添加剂指派数値1,2或3时,1意指所讨论之物质具低极性,3意指其为高极性,而2意指其为中间极性,该活性物质及添加剂具不同的极性値。13.如申请专利范围第1项、第2项或第3项之方法,其系在能使抗-溶剂流体为超临界型,但其性质较像液体,较不像气体的温度和压力下进行。14.如申请专利范围第1项、第2项或第3项之方法,其系在介于抗-溶剂流体之临界温度TC(以开氏绝对温度计)的1和1.1倍间之温度,及/或介于抗-溶剂流体之临界压力PC的1和1.5倍间之压力下进行。15.如申请专利范围第1项、第2项或第3项之方法,其系在介于298和323K间之温度,及介于70和120巴间之压力下进行。16.如申请专利范围第1项、第2项或第3项之方法,其中该载剂及抗溶剂彼此间之可溶混性低于完全溶混。17.如申请专利范围第1项、第2项或第3项之方法,其中该活性物质系一种结晶物质且该活性质和添加剂在标的溶液中之相对浓度为:(a)活性物质能在所使用之操作条件下以结晶型沈淀下来,但,在同时间:(b)有足够之添加剂以在粒子表面产生一富含添加剂(以不含活性物质或大体上如此者较佳)的外层。18.一种活性物质和添加剂之微粒共同配制品,其系为一种成分在另一种成分中的固体分散物,但其在相关添加剂浓度中具有限之梯度,此添加剂浓度系从粒子核心呈放射状往外向表面增加,该共同配制品系可由如申请专利范围第1项、第2项或第3项之方法所制成,且含有1至80%w/w之添加剂。19.如申请专利范围第18项之微粒共同配制品,其粒子具一富含添加剂之表面区,但不拥有分离之核心及包衣层且在此二者间无明确之物理界限。20.如申请专利范围第18项之微粒共同配制品,其中横跨粒子半径之添加剂浓度的变化速度为连续的,而非一步步的。21.如申请专利范围第18项、第19项或第20项之微粒共同配制品,其中该在粒子表面之活性物质:添加剂比例系足够低至让添加剂能有效地形成围绕着活性物质的保护性表面。22.如申请专利范围第18项、第19项或第20项之微粒共同配制品,其中该添加剂系一种味道及/或气味掩盖剂,且其中该在粒子表面之活性物质:添加剂的重量比系足够低至让共同配制品在消费者口中与唾液接触至少30秒后,还无法测得活性物质的释出。23.如申请专利范围第18项、第19项或第20项之微粒共同配制品,其中在该粒子表面之最外层不含暴露出之活性物质。24.如申请专利范围第18项、第19项或第20项之微粒共同配制品,其系为或含有一制药剂或营养制剂或食品。25.如申请专利范围第18项、第19项或第20项之微粒共同配制品,其中该添加剂系一种寡聚物或聚合物质。26.如申请专利范围第18项、第19项或第20项之微粒共同配制品,其中该添加剂系一种当施放至活性物质表面时具下述能力之物质:能保护活性物质不受外在作用,如:热、光、湿度、氧或化学污染物的影响,及/或能减少介于该活性物质与另一种需要与该活性物质一同处理或贮存之物质间的不相同性,及/或能延迟,减慢活性物质之释出或让活性物质之释出瞄准目标,及/或能掩盖该活性物质之味道及/或气味。27.如申请专利范围第26项之微粒共同配制品,其中该添加剂系一种味道及/或气味掩盖剂。28.如申请专利范围第18项、第19项或第20项之微粒共同配制品,其中该活性物质含有一制药上活性的物质。29.如申请专利范围第28项之微粒共同配制品,其中该活性物质和添加剂二者含有供共同-给药用之制药上活性的物质。30.如申请专利范围第18项、第19项或第20项之微粒共同配制品,其中该活性物质系一种添加剂之载体、稀释剂或膨松剂。31.如申请专利范围第18项、第19项或第20项之微粒共同配制品,其中该活性物质系以结晶型存在,而添加剂系以非结晶型存在。32.如申请专利范围第31项之微粒共同配制品,其中该共同配制品之差示扫描量热学(DSC)和/或X-光绕射(XRD)分析显示出比单独之活性物质的结晶度来得低的活性物质结晶度。33.如申请专利范围第32项之微粒共同配制品,其中该活性物质:添加剂浓度比为能使该活性物质显示出与活性物质之起始物相较下,具介于20和95%间之结晶度的比例。34.如申请专利范围第18项、第19项或第20项之微粒共同配制品,其系为具平均直径在0.5和100微米间之体积的球形或近于球形的粒子,或具平均长度在5和100微米间,平均厚度在0.5和5微米间之体积的针状粒子,或具平均厚度在0.5和5微米间之体积的盘状粒子。35.如申请专利范围第18项、第19项或第20项之微粒共同配制品,其中该活性物质浓度为70%w/w或更高。36.如申请专利范围第35项之微粒共同配制品,其中该活性物质之浓度为80%w/w或更高。37.如申请专利范围第18项、第19项或第20项之微粒共同配制品,其中该添加剂浓度为10%w/w或更高。38.如申请专利范围第18项、第19项或第20项之共同配制品在用于制造制药组成物上之用途。39.如申请专利范围第18项、第19项或第20项之共同配制品在用于制造食品或营养制剂组成物上之用途。图式简单说明:第1至9图为下列实例A1至A10之某些产品和起始物质的扫描电子显微镜(SEM)相片;第10至12图各为纯奎宁硫酸盐和实例A6及A8之产品的X-光绕射(XRD)图案;第13至19图为下列B1至B3,C1和C2之某些产品和起始物质的SEM相片;第20和21图各为纯氯化钠和实例C1之产品的XRD图案;而第22A和B图示为根据本发明之产品组成的共焦喇曼分光镜学分析的结果。
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