| 主权项 |
1.一种场发射显示器,包括: 阴极板; 缓冲层,与阴极板相抵靠; 电子发射器,形成于缓冲层上; 阳极板,覆有萤光层且与缓冲层相隔而设; 及密封装置,其包括:前面板; 后面板,与前面板相对而设;及侧壁,固设于前面板 与后面板之间以形成一内部空间;其中该内部空间 收容阴极板、缓冲层、电子发射端、阳极板与萤 光层,该侧壁系由铁镍钴合金制成。 2.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中 该铁镍钴合金中含铁54%、镍29%与钴17%。 3.如申请专利范围第2项所述之场发射显示器,其中 该密封装置进一步包括由吸气材料制成之内壁,该 吸气材料包括掺杂铬之铁镍钴合金CrxKovar1-x,其中x 在0.1到0.5范围内。 4.如申请专利范围第2项所述之场发射显示器,其中 该铁镍钴合金中含杂质碳小于或等于0.1%。 5.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中 该前面板与该后面板由玻璃制成,其热膨胀系数与 铁镍钴合金相当。 6.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中 该前面板、后面板与侧壁藉由加热相互黏固。 7.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中 该前面板、后面板与侧壁藉由玻璃密封剂相互密 封。 8.一种用于场发射显示器之密封装置,其包括: 前面板; 后面板,与前面板相对并间隔设置;及侧壁,该侧壁 固定于前面板与后面板之间形成一内部空间,并为 该内部空间提供密封,其中该侧壁由铁镍钴合金制 成。 9.如申请专利范围第8项所述之用于场发射显示器 之密封装置,其中该铁镍钴合金中含铁54%、镍29%及 钴17%。 10.如申请专利范围第9项所述之用于场发射显示器 之密封装置,其中该铁镍钴合金中含杂质碳小于或 等于0.1%。 11.如申请专利范围第8项所述之用于场发射显示器 之密封装置,其进一步包括吸气材料形成之内壁, 该内壁依附于侧壁且收容于内部空间内,为密封装 置提供机械强度与稳定性,该吸气材料包括掺杂铬 之铁镍钴合金CrxKovar1-x,其中x在0.1到0.5范围内。 12.如申请专利范围第8项所述之用于场发射显示器 之密封装置,其中该前面板与该后面板系由玻璃制 成,其热膨胀系数与铁镍钴合金之热膨胀系数相当 。 13.如申请专利范围第8项所述之用于场发射显示器 之密封装置,其中该前面板、后面板与侧壁藉由加 热相互黏固。 14.如申请专利范围第8项所述之用于场发射显示器 之密封装置,其中该前面板、后面板与侧壁藉由玻 璃密封剂相互密封。 |
