| 发明名称 |
PROCEDES DE REVETEMENT D'UN SUBSTRAT ET DE FORMATION D'UN FILM COLORE ET DISPOSITIF ASSOCIE |
| 摘要 |
<P>Le procédé comprend les étapes suivantes : on place le substrat (12) dans une enceinte (14) sous vide, on forme un gaz par évaporation d'un composant qui est liquide à pression atmosphérique et à température ambiante et on introduit un gaz dans l'enceinte (14). On décompose le gaz et on introduit dans l'enceinte (14) un gaz de complément destiné à réagir avec le gaz décomposé, pour former au moins une couche mince sur le substrat (12). L'invention concerne également un procédé de formation d'un film coloré et un dispositif (10) associé pouvant mettre en oeuvre le procédé selon l'invention.</P>
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| 申请公布号 |
FR2868434(A1) |
申请公布日期 |
2005.10.07 |
| 申请号 |
FR20040003592 |
申请日期 |
2004.04.06 |
| 申请人 |
NEYCO SOCIETE ANONYME |
发明人 |
DURAND JEAN;LAUVRAY FRANCOIS;RICHARDT ISABELLE |
| 分类号 |
C03C17/00;C03C17/36;C23C16/02;C23C16/12;C23C16/40;C23C16/448;(IPC1-7):C23C16/44;C23C16/513;C23C22/73;C09D5/00;C09D183/04 |
主分类号 |
C03C17/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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