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发明名称 REACTOR FOR DEPOSITING THIN FILM ON WAFER
摘要
申请公布号 KR20050096394(A) 申请公布日期 2005.10.06
申请号 KR20040021579 申请日期 2004.03.30
申请人 INTEGRATED PROCESS SYSTEMS LTD. 发明人 AN, CHUL HYUN;LEE, SAHNG KYOO;SEO, TAE WOOK;CHANG, HO SEUNG
分类号 H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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