| 发明名称 |
PLASMA SOURCE COIL AND PLASMA CHAMBER USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20050096392(A) |
申请公布日期 |
2005.10.06 |
| 申请号 |
KR20040021577 |
申请日期 |
2004.03.30 |
| 申请人 |
ADAPTIVE PLASMA TECHNOLOGY CORPORATION |
发明人 |
KIM, NAM HUN |
| 分类号 |
H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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