| 发明名称 |
RET for optical maskless lithography |
| 摘要 |
The present invention relates to Optical Maskless Lithography (OML). In particular, it relates to providing OML with a recognizable relationship to mask and phase-shift mask techniques.
|
| 申请公布号 |
US2005219502(A1) |
申请公布日期 |
2005.10.06 |
| 申请号 |
US20050066828 |
申请日期 |
2005.02.25 |
| 申请人 |
MICRONIC LASER SYSTEMS AB |
发明人 |
SANDSTROM TORBJORN;MARTINSSON HANS |
| 分类号 |
G02B26/00;G03F1/00;G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G02B26/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
