| 摘要 |
Eine Polierzusammensetzung enthält Siliziumdioxid, eine alkalische Verbindung, ein anionisches Tensid und Wasser. Das Siliziumdioxid ist zum Beispiel Kolloidsilica, Kieselpuder oder Kieselhydrogel. Die alkalische Verbindung ist zum Beispiel Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid, Ammoniak, Tetramethylammoniumhydroxid, Piperazinanhydrid oder Piperazinhexahydrat. Das anionische Tensid ist mindestens eines, gewählt aus einem Sulfonsäuretensid, einem Carbonsäuretensid und einem Schwefelsäureestertensid. Die Polierzusammensetzung kann geeigneterweise in Anwendungen zum Polieren eines Siliziumwafers verwendet werden. |
