发明名称 Lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要
申请公布号 EP1582929(A1) 申请公布日期 2005.10.05
申请号 EP20050251708 申请日期 2005.03.21
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 COX, HENRIKUS HERMAN MARIE;VAN DE BIGGELAAR, PETRUS MARINUS CH. M.;VAN DER MEULEN, FRITS;SPANJERS, FRANCISCUS ANDREAS C. J.;VAN DER TOOR, JAN-GERARD CORNELIS;MIGCHELBRINK, AREND-JAN
分类号 G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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