发明名称 记录重放分离型磁头
摘要 在记录重放分离型磁头中对应于感应型薄膜记录头的部分的浮起面层叠保护膜中形成3nm左右的台阶(凹部),通过偏移头因热变形而向头元件的浮起面突出,可降低实效头元件向浮起面的突出,防止与记录媒体接触。
申请公布号 CN1221945C 申请公布日期 2005.10.05
申请号 CN03107521.5 申请日期 2003.02.25
申请人 株式会社日立制作所 发明人 中西荣司;矶野千博;田所茂;米川直;松崎哲也;松下雅夫
分类号 G11B5/127 主分类号 G11B5/127
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人 郝庆芬
主权项 1、一种记录重放分离型磁头,具有以下构成:磁阻效应型头;感应型薄膜记录头,与该磁阻效应型头相邻设置,具有下部磁性膜、上部磁性膜、配置在该下部磁性膜与上部磁性膜之间的记录间隙膜和线圈;保护膜,形成于该感应型薄膜记录头的上部;浮起面保护膜,形成于上述磁阻效应型头和感应型薄膜记录头的浮起面中;和第1凹部,形成于该浮起面保护膜对应于上述感应型薄膜记录头及上述保护膜的部分。
地址 日本东京