Control of ambient environment during wafer drying using proximity head,申请号EP20050251901-传众专利搜索

发明名称	Control of ambient environment during wafer drying using proximity head
摘要
申请公布号	EP1583136(A1)	申请公布日期	2005.10.05
申请号	EP20050251901	申请日期	2005.03.29
申请人	LAM RESEARCH CORPORATION	发明人	DE LARIOS, JOHN M.;KOROLIK, MIKHAIL;RAVKIN, MIKE;FARBER, JEFFREY
分类号	H01L21/304;B08B3/04;H01L21/00;(IPC1-7):H01L21/00	主分类号	H01L21/304
代理机构		代理人
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