发明名称 ion source portion of implanter reducing a secondary election activation
摘要
申请公布号 KR100518528(B1) 申请公布日期 2005.10.04
申请号 KR19990022313 申请日期 1999.06.15
申请人 发明人
分类号 H01L21/265;(IPC1-7):H01L21/265 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人
主权项
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