磁电管及溅镀靶间之间距补偿

摘要

兹提供一种昇举机构(124、130)，对应使用于一电浆溅镀反应器(30)内之一垂直移动之磁电管(70)。该磁电管(70)系绕该靶材轴(76)旋转，且可控制地昇举离该靶材(34)之该背侧以补偿溅镀侵蚀，从而于该溅镀表面维持一固定之磁场与产生之电浆密度，其对于一小型磁电管之稳定操作尤其重要，例如，绕该靶材轴执行圆形或行星状运动时。该昇举机构(130)可包含一轴向固定至该磁电管支撑轴(82)之导螺栓以及一啮合其中之导螺帽(150)，以在转动该导螺帽时升高该磁电管。或者，该支撑轴可轴向固定至一垂直移动滑块(236)。昇举之量可根据依照施加至该靶材之累积功率(320)之一配方或藉由监控该靶材之电性特征(322)而控制。