发明名称 | 保护膜及其制造方法 | ||
摘要 | 一种保护膜及其制造方法,该保护膜具有一基材与一黏着层,该基材其系为选自聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯或是芳族聚酯之材质所形成者,前述黏着层其系存在于该基材的至少一表面上,且在基材与黏着层间存在一可改善基材与黏着层两层间密合程度之压克力黏胶,使得该保护膜具有更高之抗应力结构,同时使得该黏着层所需使用之厚度可以减少,因而大幅降低制造保护膜之成本支出。 | ||
申请公布号 | TW200531986 | 申请公布日期 | 2005.10.01 |
申请号 | TW093112845 | 申请日期 | 2004.05.07 |
申请人 | 力特光电科技股份有限公司 | 发明人 | 许世川;冯修敏;杨碧娟 |
分类号 | C08J5/18 | 主分类号 | C08J5/18 |
代理机构 | 代理人 | 何文渊 | |
主权项 | |||
地址 | 桃园县平镇市平东路659巷37号 |