标记设备及应用此标记设备之曝光对位方法

摘要

一种标记设备及应用此标记设备之曝光对位方法。此曝光对位方法至少包括：提供基板，其中此基板系包括一裸基板以及覆盖于此裸基板之一材料层；以标记设备形成至少一对准标记于基板上；利用此对准标记进行对准步骤；以及在上述之材料层上依序形成复数个曝光区域。