发明名称 曝光装置及对位方法
摘要 〔课题〕提供可进行最佳之对位之曝光装置。〔解决手段〕最初,进行一次之对位(S1),侦测在P1、P2、P3、P4之基板记号10和光罩记号20之偏差Dp(S2),储存其中之最大值MDp(S3)。重复上述动作N次(S4),侦测N个最大值MDp,求其中之最小值MDpmin(S5)。判别是否是MDpmin<既定值(S6),若系既定值以下,判定侦测到该最小值MDpmin之第n次之对位位置系最佳位置(S7)。若不是既定值以下,判定该基板W为不良品(S8)。
申请公布号 TW200532399 申请公布日期 2005.10.01
申请号 TW094104615 申请日期 2005.02.17
申请人 亚多特克工程股份有限公司 发明人 桥本一范
分类号 G03F9/00 主分类号 G03F9/00
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本