发明名称 电浆蚀刻装置及其沉积物剥落监控预警方法
摘要 一种沉积物剥落之监控预警方法,适用于半导体电浆蚀刻装置之反应室,该方法包含有下列步骤:提供一检测波长及一预设强度平均值,接着在反应室中形成电浆,进行一清洁程序,以去除反应室中之污染物;在上述清洁程序进行时,持续监控电浆放电所产生上述检测波长之光波强度,并将所测得检测波长之光波强度平均,求得一强度平均值;而当强度平均值大于预设强度平均值时,停止电浆蚀刻装置运作,发出一警示讯息,以进行适当的维护作业。
申请公布号 TW200532796 申请公布日期 2005.10.01
申请号 TW094106219 申请日期 2005.03.02
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 陈俋菱
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号