发明名称 微缩闸极尺寸之方法
摘要 提供一种微缩闸极尺寸之方法,此方法系包含利用一热氧化之方法,在半导体基板上及闸极上形成一氧化层,并经由控制其闸极上氧化层之厚度,即可控制闸极上之通道长度,再经由一调配适当之蚀刻溶液将此闸极上之氧化层去除,而达到将闸极尺寸微缩之目的,此可克服微影制程之能力,并以最经济之方法将闸极尺寸微缩至先进制程的需求。
申请公布号 TW200532917 申请公布日期 2005.10.01
申请号 TW093107537 申请日期 2004.03.19
申请人 矽统科技股份有限公司 发明人 叶曜嘉;庄筱雯;杜建男;董萱盛
分类号 H01L29/78 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 陈达仁;谢德铭
主权项
地址 新竹市新竹科学园区研新一路16号