发明名称 炉管设备之监控方法
摘要 本案提供一种炉管设备之监控方法,其包含下列步骤:(a)将炉管设备开启至一特定功率;(b)以温度纪录器纪录该炉管设备之升温速率;以及(c)将该升温速率与一设定门槛值比较;藉以,当该升温速率小于该设定门槛值时,更换该炉管设备。
申请公布号 TWI240953 申请公布日期 2005.10.01
申请号 TW093133085 申请日期 2004.10.29
申请人 台湾茂矽电子股份有限公司 发明人 邱明宏;孙培峰;潘国彬;吴胜隆
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 王丽茹 台北市内湖区瑞光路583巷27号4楼;曾国轩 台北市内湖区瑞光路583巷24号7楼
主权项 1.一种炉管设备之监控方法,其包含下列步骤:(a)将炉管设备开启至一特定功率;(b)以温度纪录器纪录该炉管设备之升温速率;以及(c)将该升温速率与一设定门槛値比较;藉以,当该升温速率小于该设定门槛値时,更换该炉管设备。2.如申请专利范围第1项所述之炉管设备之监控方法,其中该特定功率实质上为100%。3.如申请专利范围第1项所述之炉管设备之监控方法,其中该炉管设备之加热线圈为一金属电阻。4.如申请专利范围第1项所述之炉管设备之监控方法,其中该炉管设备至少包含一石英钟罩以及复数个加热线圈。5.如申请专利范围第4项所述之炉管设备之监控方法,其中该炉管设备之加热线圈系包围于炉管设备之石英钟罩之外侧。6.如申请专利范围第4项所述之炉管设备之监控方法,其中该炉管设备之加热线圈形成复数个加热区。7.如申请专利范围第6所述之炉管设备之监控方法,其中该加热区约为6~9个。8.如申请专利范围第1项所述之炉管设备之监控方法,其中该设定门槛値系为15℃/MIN。9.如申请专利范围第1项所述之炉管设备之监控方法,其中该温度纪录器所得的纪录数値可合并于半导体制程中之制程参数。10.如申请专利范围第1项所述之炉管设备之监控方法,其中该炉管设备系为垂直式炉管设备或直立式炉管设备。图式简单说明:第一图:其系为垂直式炉管设备之结构示意图。第二图:其系为本案炉管设备之监控方法之流程图。
地址 新竹市科学工业园区力行路19号