| 主权项 |
1.一种显示器面板,至少包括:一基板;一通道层,形成于该基板之上;一绝缘层,形成于该通道层之上,且该绝缘层包括有一第一接触窗以及一第二接触窗,用以曝露出该通道层之部分表面;一第二导线层,形成于该绝缘层之部分表面上方并填入于该第一接触窗之中;一平坦层,形成于该绝缘层与该第二导线层之部分表面上方并填入于该第二接触窗之中;以及一导电层,形成于该平坦层之上与该第二导线层之部分表面上方。2.如申请专利范围第1项所述之显示器面板,其中该显示器面板系可为一种具有薄膜电晶体阵列(TFTArray)之显示器面板。3.如申请专利范围第1项所述之显示器面板,其中该基板更包括有一第一导线层,且该第一与第二导线层系可分别为一包括有闸极(gate)之扫描导线(scanline)层与一资料导线(data line)层。4.如申请专利范围第1项所述之显示器面板,其中该通道层系可为一复晶矽层。5.如申请专利范围第1项所述之显示器面板,其中该平坦层系可为一有机聚合物层。6.如申请专利范围第1项所述之显示器面板,其中该第二接触窗系可为一哑窗(dummy contact hole)。7.如申请专利范围第1项所述之显示器面板,其中该导电层系可为一铟锡氧化物(Indium Tin Oxide,ITO)层,用以作为像素电极(pixel electrode)。8.一种形成显示器面板之方法,至少包括下列步骤:提供一基板;形成一通道层于该基板之上;形成一绝缘层于该通道层之上;罩幕蚀刻去除部分该绝缘层,以形成一第一接触窗及一第二接触窗;形成一第二导线层于该绝缘层之部分表面上方并填入于该第一接触窗之中;形成一平坦层于该绝缘层与该第二导线层之部分表面上方并填入于该第二接触窗之中;以及形成一导电层于该平坦层之上与该第二导线层之部分表面上方。9.如申请专利范围第8项所述之形成显示器面板之方法,其中该显示器面板系可为一种具有薄膜电晶体阵列(TFT Array)之显示器面板。10.如申请专利范围第8项所述之形成显示器面板之方法,其中该基板包括有一第一导线层,且该第一与第二导线层系可分别为一包括有闸极(gate)之扫描导线(scan line)层与一资料导线(data line)层。11.如申请专利范围第8项所述之形成显示器面板之方法,其中该通道层系可为一复晶矽层。12.如申请专利范围第8项所述之形成显示器面板之方法,其中该平坦层系可为一有机聚合物层。13.如申请专利范围第8项所述之形成显示器面板之方法,其中该第二接触窗系可为一哑窗(dummy contacthole)。14.如申请专利范围第8项所述之形成显示器面板之方法,其中该导电层系可为一铟锡氧化物(Indium TinOxide,ITO)层,用以作为像素电极(pixel electrode)。图式简单说明:第一图:其系为习知显示器面板示例图。第二图:其系为本案之一较佳实施示例图。第三图(a)-(e):其系为本案之一较佳实施步骤示例图。 |
