发明名称 曝光装置及元件制造方法
摘要 曝光装置(EX),系具有:透过光学系统(30)与液体(L)将曝光用光(EL)照射于基板(W)之曝光区域(E);及在曝光前用以取得该基板(W)相关位置的资讯之量测区域(A);使基板(W)移动于曝光区域(E)与量测区域(A)之间,以进行基板(W)的曝光;其具备侵入阻绝机构(60),供防止曝光区域(E)周边的气体(G)侵入量测区域(A)。
申请公布号 TW200532393 申请公布日期 2005.10.01
申请号 TW094104736 申请日期 2005.02.18
申请人 尼康股份有限公司 发明人 高岩宏明
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 日本
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