发明名称 化学机械研磨垫
摘要 本发明系关于一种化学机械研磨垫,该化学机械研磨垫具有一用于研磨一欲研磨物体之表面、一对置于该表面之非研磨面及一用于互连该等表面之侧面,且该化学机械研磨垫包括凹陷部分之图案,该等凹陷部分系形成于非研磨面上且被敞开至该非研磨面但不被敞开至该侧面。
申请公布号 TW200531784 申请公布日期 2005.10.01
申请号 TW093133682 申请日期 2004.11.04
申请人 JSR股份有限公司 发明人 宫内裕之;志保浩司;川桥信夫
分类号 B24B37/04;B24D13/14 主分类号 B24B37/04
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本