液体供给机构及液体供给方法以及显像处理装置及显像处理方法

摘要

将显像处理曝光图案后之基板予以清洗处理的清洗处理方法，具备有自显像后之基板甩脱掉显像液之工程(STEP5)；供给水系洗净液至基板上之工程(STEP6)；将供给含有界面活性剂之清洗液至基板上而残存于基板上之液体，置换成含有上述界面活性剂之清洗液的工程(STEP8)；使基板旋转而扩散并甩脱掉基板上含有上述界面活性剂之清洗液的工程(STEP9)，将STEP8中含有上述界面活性剂之清洗液之供给时间设为5秒以内，STEP9是包含低旋转次数之第1阶段和高旋转数之第2阶段，使上述第1阶段中之基板的旋转数设为超过300rpm未满1000rpm。