| 主权项 |
1.一种光学设备,包含: 光学元件,其具有三个第一部;及 支撑构件,其具有三个分别接触该三个第一部的第 二部,及支撑该光学元件, 其中,该第一部及该第二部的一者具有实质V形截 面,而该第一部及该第二部的另一者具有实质球形 截面,及,该光学元件系藉该支撑构件经由该三个 第一部及该三个第二部而运动地支撑。 2.如申请专利范围第1项之设备,其中该光学元件具 有三个实质V形第一凹槽,而该支撑构件具有三个 分别接触该三个实质V形第一凹槽的实质球形构件 、及三个分别接触该三个实质球形构件的实质V形 第二凹槽。 3.如申请专利范围第1项之设备,其中该实质V形截 面系配置如线性凹槽。 4.如申请专利范围第3项之设备,其中该线性凹槽系 沿着该光学元件的径向配置。 5.如申请专利范围第1项之设备,其中该实质V形截 面系配置如螺旋形凹槽。 6.如申请专利范围第4项之设备,其中三个该线性凹 槽系以120度的间隔配置。 7.如申请专利范围第1项之设备,其中该V形截面形 成实质直角。 8.如申请专利范围第2项之设备,其中该设备系配置 以使该实质球形构件沿着该第一凹槽及对应于该 第一凹槽的该第二凹槽滚动。 9.如申请专利范围第1项之设备,其中该支撑构件在 距该光学元件的中心达该光学元件半径的60%至70% 的距离之位置接触该光学元件。 10.如申请专利范围第1项之设备,其中该光学元件 具有三个配置在其周围的实质球形凸面体,及,该 支撑构件具有三个实质V形凹槽,该三个实质V形凹 槽分别接触该三个实质球形凸面体且分别配置于 该光学元件的径向。 11.如申请专利范围第10项之设备,其中该三个实质V 形凹槽可分别移动于该光学元件的径向。 12.如申请专利范围第10项之设备,其中该三个球形 实质凸面体系绕着该光学元件的中心以120度的间 隔配置。 13.如申请专利范围第10项之设备,另包含驱动机构, 其用来驱动形成该实质V形凹槽于该支撑平面的垂 直方向之两平面的每一者。 14.如申请专利范围第10项之设备,另包含加压机构, 其用来朝向该实质V形凹槽加压该实质球形凸面体 。 15.如申请专利范围第1项之设备,其中该光学元件 具有三个配置在其周围的实质V形凸面体,及,该支 撑构件具有三对实质球形构件,该三对球形构件分 别夹住并接触该三个实质V形凸面体。 16.如申请专利范围第15项之设备,其中该三对实质 球形构件可分别移动于该光学元件的径向。 17.如申请专利范围第15项之设备,其中该三个实质V 形凸面体系绕着该光学元件的中心以120度的间隔 配置。 18.如申请专利范围第1项之设备,其中该光学元件 系镜。 19.一种将图案光学地转移至基板之曝光设备,该设 备包含如申请专利范围第1至18项中任一项所界定 之光学设备。 20.一种装置制造方法,包含以下步骤: 使用如申请专利范围第19项所界定之曝光设备将 图案转移至基板;及 使已被转移有该图案的该基板显影。 图式简单说明: 图1系本发明的一个形态的保持器的简要结构。 图2系图1所示之光学元件的简要立体图。 图3系由图1所示的保持器固持的光学元件上之第 一凹槽、支撑构件及固定构件上的第二凹槽的简 要截面图。 图4系本发明的另一形态的保持器的简要结构。 图5系图4所示之光学元件的简要立体图。 图6系由图4所示的保持器所固持的光学元件上的 凸面体及固持构件上的凹槽的简要截面图。 图7系显示具有加压机构的光学元件的凸面体及固 持构件上的凹槽之简要截面图。 图8系提供具有驱动机构的固持构件之保持器的简 要结构。 图9系如图4所示的保持器的变化之保持器的简要 结构。 图10系图9所示之光学元件的简要立体图。 图11系显示当图9所示的保持器固持光学元件时,光 学元件的凸面体及固持构件的两个球形部件之简 要截面图。 图12系依据本发明之示范性曝光设备的简要结构 。 图13系用以解说如何制造装置之流程图(例如,诸如 IC及LCD的半导体晶片、CCD及类似物)。 图14系如图13所示的步骤4之晶圆制程的详细流程 图。 图15系显示图1所示的第一凹槽的形状的变化之平 面图。 |
