| 主权项 |
1.一种投影校准器,用于转移光罩的光罩图案的影 像至曝光物体上,该投影校准器包括: 投影光学系统,其形成该光罩图案的影像至该物体 上; 膨胀率决定器,其测量该物体在第一方向及第二方 向的长度及根据该长度决定第一膨胀率及第二膨 胀率,该第一膨胀率及第二膨胀率分别为该物体在 该第一方向及第二方向的膨胀率;及 放大率控制器,其调整该投影光学系统的放大率至 介于该第一方向及第二方向膨胀率之间的値。 2.如申请专利范围第1项之投影校准器,其中该第一 方向及第二方向分别与该物体的纵方向及横方向 平行。 3.如申请专利范围第1项之投影校准器,其中该放大 率控制器调整该投影光学系统的放大率至该第一 膨胀率及第二方膨胀率的平均値。 4.如申请专利范围第1项之投影校准器,其中该放大 率控制器调整该投影光学系统的放大率至等于该 第一膨胀率及第二方膨胀率其中之一的値。 5.如申请专利范围第1项之投影校准器,其中该物体 具有至少两个第一标记沿该第一方向配置在其上 面,及至少两个第二标记沿该第二方向配置在其上 面,及 其中该膨胀率决定器系根据该第一标记之间的距 离决定在该第一方向之长度,及根据该第二标记之 间的距离决定在该第二方向之长度。 6.如申请专利范围第1项之投影校准器,其中该膨胀 率决定器包括: 摄影机,用以捕捉该物体的影像;及 影像处理器,适合从该摄影机捕获的影像决定该物 体的第一方向及第二方向的长度。 7.如申请专利范围第6项之投影校准器,其中该影像 处理器根据在该物体上形成的校准标记决定该长 度。 8.一种投影校准器,用于转移光罩的光罩图案的影 像至曝光物体上,该投影校准器包括: 投影光学系统,其形成该光罩图案的影像至该物体 上; 长度决定器,其测量该光罩及该物体的第一方向及 第二方向长度;及 放大率控制器,其调整该投影光学系统的放大率至 介于第一尺寸及第二尺寸比之间的値,该第一尺寸 及第二尺寸比分别为该第一及第二方向的物体长 度对该光罩长度比。 9.如申请专利范围第8项之投影校准器,其中该放大 率控制器调整该投影光学系统的放大率至该第一 方向及第二方向长度比的平均値。 10.如申请专利范围第8项之投影校准器,其中该放 大率控制器调整该投影光学系统的放大率至定义 为(12x+12y)/(1lx+1ly)之値,其中12x及12y分别代表该物 体在第一方向及第二方向的长度,及11x及lly分别代 表该光罩在第一方向及第二方向的长度。 11.如申请专利范围第8项之投影校准器,其中该长 度决定器根据至少两个沿该第一方向在该物体上 形成的标记决定该光罩及该物体在第一方向之长 度,及根据至少两个沿该第二方向在该物体上形成 的标记决定在第二方向之长度。 12.如申请专利范围第8项之投影校准器,其中该长 度决定器包括: 第一摄影机及第二摄影机,分别捕捉该光罩及该物 体的影像;及 影像处理器,适合从该第一摄影机及第二摄影机捕 获的影像决定该光罩及该物体的第一方向及第二 方向的长度。 13.如申请专利范围第12项之投影校准器,其中该影 像处理器根据在该光罩及该物体的各角落附近形 成的校准标记决定长度。 14.如申请专利范围第8项之投影校准器,其中该第 一方向及第二方向分别为该物体的纵方向及横方 向。 15.一种投影校准器,用于转移光罩的光罩图案的影 像至曝光物体上,该光罩包括复数个局部光罩区, 该物体包括复数个局部物体区,各局部光罩区包括 该光罩图案的一部份以便转移至该复数个局部物 体区的不同各区上面,该投影校准器包括: 投影光学系统,其形成该光罩图案的影像至该物体 上; 长度决定器,其测量各该局部光罩区及该局部物体 区的第一方向及第二方向的长度; 尺寸比决定器,其决定各该等局部物体区第一尺寸 及第二尺寸比,该第一及第二尺寸比分别为该第一 方向及第二方向的局部物体区长度对该区部光罩 区长度比;及 放大率控制器,其调整该投影光学系统的放大率至 介于第一及第二平均尺寸比之间的値,该第一平均 尺寸比为该第一尺寸比的平均値,及该第二平均尺 寸比为该第二尺寸比的平均値。 16.如申请专利范围第15项之投影校准器,其中该放 大率控制器调整该投影光学系统的放大率至该第 一及第二平均尺寸比的平均値。 17.如申请专利范围第15项之投影校准器,其中该放 大率控制器调整该投影光学系统的放大率至定义 为(12xm+12ym)/(1lxm+1lym)之値,其中12xm及12ym分别代表 该等局部物体区在第一及第二方向的长度平均値, 及1lxm及1lym分别代表该等局部光罩区在该第一及 第二方向的长度平均値。 18.如申请专利范围第15项之投影校准器,其中该长 度决定器包括: 复数个第一摄影机,其各用于捕捉各该局部光罩区 中的不同一个影像; 复数个第二摄影机,各用于捕捉各该局部物体区中 的不同一个影像;及 影像处理器,其适合从该第一摄影机及第二摄影机 捕获的影像决定各该等局部光罩区及该局部物体 区的第一及第二方向的长度。 19.如申请专利范围第18项之投影校准器,其中各该 等局部光罩区及该等局部物体区的定义为位于各 区的各角落附近一长方型区,并且具有一校准标记 ,及 其中该影像处理器根据该标记之间的距离决定长 度。 图式简单说明: 第一图为根据本发明一具体实施例的投影校准器 构造的示意图; 第二图为第一图所示投影校准器的基板高度侦测 单元构造的示意图; 第三图为第一图所示投影校准器的侧视示意图; 第四图为第一图所示投影校准器的光罩的上视示 意图; 第五图为由第一图所示投影校准器曝光的基板的 上视示意图; 第六图为根据本发明一具体实施例的具有复数个 光罩位置侦测器及复数个物体位置侦测器的投影 校准器的概念示意图; 第七图为光线通过透镜单元及由第一图所示投影 校准器的顶置镜反射的示意图; 第八图为第一图所示投影校准器内光线从光罩射 向基板的示意图; 第九图为投影校准器内光束投影在基板的示意图, 其中调整投影光学系统以放大投影在基板上的影 像; 第十图及第十一图为第一图所示投影校准器在影 像位置获得调整之前及之后光线从光罩射向基板 的示意图;及 第十二图为投影校准器内光束从光源投影在基板 的示意图,其中影像位置调整已经完成。 |
