发明名称 光记录媒体及其制造方法
摘要 本发明的目的在提供,光射入面的表面硬度很高,且,光记录媒体的扭曲受到抑制的光记录媒体。本发明的光记录媒体备有:基板11;设在基板11上的记录层14;设在上述记录层14上的由紫外线硬化型树脂形成的光透过层16;以及,设在光透过层16上的硬罩(hardcoat)层17,光透过层的厚度为50μm以上,且,其铅笔硬度设定在HB以下。藉此,可以有效抑制起因于构成光透过层16的紫外线硬化型树脂硬化收缩时光记录媒体的扭曲。而且,因为在这种光透过层16上设有硬罩层17,因此可以有效防止光记录媒体表面受到损伤。
申请公布号 TWI240926 申请公布日期 2005.10.01
申请号 TW091119428 申请日期 2002.08.27
申请人 TDK股份有限公司 发明人 须泽和树;宇佐美守
分类号 G11B7/24;G11B7/26 主分类号 G11B7/24
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种光记录媒体,备有:基板;设在上述基板上的 功能层;设在上述功能层上的紫外线硬化型树脂形 成的光透过层;以及,设在上述光透过层上的硬罩( hard coat)层,其特征为:上述光透过层的厚度为50m 以上,且其铅笔硬度在HB以下。 2.如申请专利范围第1项的光记录媒体,其中上述光 透过层的厚度为150m以下。 3.如申请专利范围第1项的光记录媒体,其中上述硬 罩层的铅笔硬度在H以上。 4.如申请专利范围第1项的光记录媒体,其中上述硬 罩层含有无机粉末或有机粉末。 5.如申请专利范围第4项的光记录媒体,其中上述有 无机粉末或有机粉末的平均粒径在100nm以下。 6.如申请专利范围第1项的光记录媒体,其中在上述 硬罩层至少含有润滑剂、防止带电剂及分散剂中 的一种。 7.如申请专利范围第1项的光记录媒体,其中构成上 述光透过层的紫外线硬化型树脂的依比重法的硬 化收缩率在7%以下。 8.如申请专利范围第1项的光记录媒体,其中上述功 能层至少备有含相变化材料的记录层。 9.一种光记录媒体,备有:基板;设在上述基板上的 功能层;设在上述功能层上的紫外线硬化型树脂形 成的光透过层;以及,设在上述光透过层上的硬罩( hard coat)层,其特征为:构成上述光透过层的紫外线 硬化型树脂的依比重法的硬化收缩率在7%以下。 10.如申请专利范围第9项的光记录媒体,其中上述 功能层至少备有含相变化材料的记录层。 11.一种光记录媒体,备有:基板;设在上述基板上的 功能层;设在上述功能层上的紫外线硬化型树脂形 成的光透过层;以及,设在上述光透过层上的硬罩( hard coat)层,其特征为:上述硬罩层含有无机粉末或 有机粉末。 12.如申请专利范围第11项的光记录媒体,其中上述 有无机粉末或有机粉末的平均粒径在100nm以下。 13.如申请专利范围第11项的光记录媒体,其中上述 功能层至少备有含相变化材料的记录层。 14.一种光记录媒体的制造方法,其特征为具备:在 基板上形成功能层的制程;在上述功能层上旋转涂 抹第1紫外线硬化型树脂后,照射紫外线,形成厚度 50m以上,铅笔硬度在HB以下的光透过层的制程;在 上述光透过层上旋转涂抹含第2紫外线硬化型树脂 的硬罩液后,照射紫外线,形成硬罩层的制程。 15.如申请专利范围第14项的光记录媒体的制造方 法,其中上述第1紫外线硬化型树脂的依比重法的 硬化收缩率在7%以下。 16.如申请专利范围第14项的光记录媒体的制造方 法,其中上述硬罩液含有平均粒径在100nm以下的无 机粉末或有机粉末。 图式简单说明: 第1图是概略表示本发明的可取实施形态的光记录 媒体10的截面图。 第2图是表示光记录媒体10的制造方法的流程图。 第3图是概略方式表示CD-RW的构造的截面图。
地址 日本