| 主权项 |
1.一种有机电激发光面板之制造方法,其特征在于: 该有机电激发光面板具有透明基板,其系以主动元 件驱动之第1电极层复数形成于每个像素,于该每 个像素具有暴露前述第1电极层之矩形开口,具备 形成于该第1电极层上之绝缘层者;电洞输送层及 电洞注入层,其系于前述复数的每个像素顺序层叠 形成于前述矩形开口之前述第1电极上者,有机发 光层,其系于每个像素形成于该电洞注入层的上层 者,电子注入层及电子输送层,其系顺序层叠形成 于该有机发光层的上层者;及第2电极层,其系共通 地覆盖前述复数像素的前述电子输送层而形成者; 其制造方法系: 具有以经由与前述透明基板的前述绝缘层密接而 配置之多层金属遮罩之遮罩孔之蒸镀材料的蒸镀, 形成前述有机发光层、有机发光层、电子注入层 及电子输送层的至少一种之步骤,前述多层金属遮 罩于前述透明基板侧的金属层材质与前述蒸镀材 料的供给源侧的金属层材质相异,前述透明基板侧 的金属层以外的至少一个金属层以磁性材料的厚 板构成,前述透明基板侧的金属层的遮罩孔系与前 述蒸镀材料的供给源侧的金属层的遮罩孔的面积 相等或是小。 2.如申请专利范围第1项之有机电激发光面板之制 造方法,其中 前述多层金属遮罩系该前述蒸镀材料的供给源侧 的金属层的遮罩孔部的内壁具有30度以上85度以下 的倾斜角度,于该蒸镀材料的供给源侧开放成漏斗 状。 3.如申请专利范围第1项之有机电激发光面板之制 造方法,其中 前述多层金属遮罩系该前述透明基板侧的金属层 的厚度较前述蒸镀材料的供给源侧的金属层的厚 度薄。 4.如申请专利范围第1项之有机电激发光面板之制 造方法,其中 前述多层金属遮罩系该前述透明基板侧的金属层 的遮罩孔具有对应前述像素各个之纵尺寸及横尺 寸,前述蒸镀材料的供给侧的金属层的遮罩孔部具 有共通地包含复数个像素之纵尺寸。 5.如申请专利范围第1项之有机电激发光面板之制 造方法,其中 前述多层金属遮罩系该前述透明基板侧的金属层 的遮罩孔具有对应前述像素各个之纵尺寸及横尺 寸,该遮罩孔部的角部的曲率半径为5微米以下。 6.一种有机电激发光面板,其特征在于:具有透明基 板,其系于每个像素复数形成以主动元件驱动驱动 之第1电极层,于前述每个像素具有暴露前述第1电 极层之矩形开口,并具备形成于前述第1电极层上 之绝缘层者;电洞输送层及电洞注入层,其系于前 述复数的每个像素顺序层叠形成于位于前述矩形 开口之前述第1电极上者;有机发光层,其系于前述 电洞注入层的上层,形成于每个像素者;电子注入 层及电子输送层,其系顺序层叠形于前述有机发光 层的上层者;及第2电极层,其系共通地覆盖前述复 数像素的前述电子输送层而形成者;前述矩形开口 的短边为14微米以下,长边为42微米以下。 7.一种有机电激发光面板,其特征在于:具有透明基 板,其系于每个像素复数形成以主动元件驱动之第 1电极层,于前述每个像素具有暴露前述第1电极层 之矩形开口,并具备形成于前述第1电极层上之绝 缘层者;电洞输送层及电洞注入层,其系于前述复 数的每个像素顺序层叠形成于前述矩形开口之前 述第1电极上者;有机发光层,其系于前述电洞注入 层的上层,形成于每个像素者;电子注入层及电子 输送层,其系顺序层叠形于前述有机发光层的上层 者;及第2电极层,其系共通地覆盖前述复数像素的 前述电子输送层而形成者;前述矩形开口的短边为 14微米以下,长边为42微米以下,于每个像素形成于 前述电洞注入层的上层之有机发光层与顺序层叠 形成于前述有机发光层的上层之电子注入层及电 子输送层较暴露前述第1电极层之矩形开口大,且 该矩形开口的角部的曲率半径为5微米以下。 8.如申请专利范围第7项之有机电激发光面板,其中 形成于前述矩形开口之像素的间距,于该矩形开口 的长边侧为69微米以下,于短边侧为23微米以下。 图式简单说明: 图1为显示使用于本发明的有机电激发光面板的制 造之多层金属遮罩的1实施例的构成之剖面图。 图2(a)-2(f)为模式地显示使用于本发明的有机电激 发光面板的制造之多层金属遮罩的一实施例之一 方之面的制造步骤之剖面图。 图3(a)-3(f)为模式地说明使用于本发明的有机电激 发光元件之金属遮罩一实施例之他方之面的制造 步骤之剖面图。 图4为模式地显示使用于本发明的有机电激发光元 件之金属遮罩的抗蚀剂曝光用遮罩之概要图。 图5为本实施例的多层金属遮罩模式地扩大显示之 剖面图。 图6(a)-6(b)为使用于本发明之有机电激发光面板的 绿色发光层等的蒸镀之多层金属遮罩与构成有机 电激发光面板之透明基板之绝缘膜之开口部分,亦 即像素开口的概念图。 图7(a)-7(b)为使用于本发明之有机电激发光面板的 蓝色发光层等的蒸镀之多层金属遮罩与构成有机 电激发光面板之透明基板之绝缘膜之开口部分,亦 即像素开口的概念图。 图8(a)-8(b)为使用于本发明之有机电激发光元件的 红色发光层等的蒸镀之多层金属遮罩与构成有机 电激发光面板之透明基板之绝缘膜之开口部分,亦 即像素开口的概念图。 图9(a)-9(b)为说明根据本发明之多层金属遮罩的角 部R尺寸的大小对像素开口的蒸镀缺陷状态之平面 图。 图10为藉由本发明之有机电激发光面板的制造方 法的说明图。 图11为显示使用本发明之多层金属遮罩而形成的 像素配列例之有机电激发光面板的部分平面图。 图12为说明构成本发明之有机电激发光面板上的 彩色一像素之子像素的其他排列例之有机电激发 光面板的部分平面图。 图13为组合藉由本发明制造之有机电激发光面板 之高精细有机电激发光影像显示装置例的说明图 。 |
