| 主权项 |
1.一种光学色转换膜制造方法,其包括下列步骤: 光学色转换胶材调制: 该光学色转换胶材系由0.1-60%重量百分比之光学色 转换材料与高分子黏结材料掺混,并经搅拌机混合 均匀调制而成;该光学色转换材料系由一种以上之 光学色转换粉体所混合组成,而该光学色转换粉体 系包括金属氧化物、金属硫化物、含矽金属化合 物、含磷金属化合物以及含卤素金属化合物等,而 合成金属氧化物、金属硫化物、含矽金属化合物 、含磷金属化合物以及含卤素金属化合物之金属 系包括锌(Zn)、铜(Cu)、钴(Co)、铝(Al)、铕(Eu)、镝( Dy)、锶(Sr)、铋(Bi)、镍(Nd)、钙(Ca)、铬(Cr)、锰(Mn) 、锭(Ga)、钛(Ti)、铽(Tb)、铥(Tm)、铈(Ce)、钇(Y)、 钡(Ba)、镉(Cd)、银(Ag)、铅(Pb)、锗(Ge)、铟(In)、硒( Se)等; 基材裁切与前处理作业: 将基材裁切成一定作业尺寸之大小,并进行基材表 面清洁及清洁度检查; 基材老化: 将裁切后之基材于预定之时间及温度分布等老化 条件下进行加热处理,再回复至常温,以使基材预 先收缩; 网版制作: 将一具有特定材质及网目之网材以一定之张网角 度,经张网机在预定时间内施予一预定之张力,而 制成一未涂布成型之网版; 晒版成型; 以乳剂涂布机对未涂布成型之网版进行涂布乳剂 之作业,使所涂布之乳剂累积至一定之厚度而形成 一乳剂层,并以晒版机经一具有特定之尺寸及图形 之光罩,来进行晒版作业,使特定区域之乳剂层硬 化,然后再以溶剂进行洗版作业,洗版后再经乾燥 处理而制成一具有特定图案之网版; 印刷; 以网版印刷设备将光学色转换胶材透过具有特定 图案之网版印刷至该基材上,以形成一均匀的光学 色转换薄膜; 乾燥处理: 将前一步骤中所完成具有光学色转换薄膜之基材, 进行乾燥硬化处理; 裁切作业: 于乾燥处理后之具有光学色转换胶材薄膜的基材 上贴覆一层保护膜,并裁切成所需之尺寸。 2.依申请专利范围第1项所述之光学色转换膜制造 方法,其中该高分子黏结材料系为溶剂型高分子溶 液,其包括聚树脂、聚醯胺树脂、聚酯树脂、聚 醚树脂、含卤素树脂、橡胶、含矽树脂、压克力 树脂、纤维素树脂等一种以上之混合溶液,其浓度 为10-50%重量百分比。 3.依申请专利范围第1项所述之光学色转换膜制造 方法,其中该高分子黏结材料系为反应型高分子溶 液其包括环氧树脂、聚醯胺树脂、压克力树脂、 聚酯树脂、聚醚树脂、含卤素树脂等溶液,其浓度 范围为10-100%重量百分比;及添加剂,该添加剂包括 光感触媒、热硬化触媒、填充剂等,其浓度范围为 0.01-50%重量百分比。 4.依申请专利范围第1项所述之光学色转换膜制造 方法,其中该基材系为雾度零以上之透光材料所制 成 5.依申请专利范围第1项所述之光学色转换膜制造 方法,其中该基材老化步骤中之老化条件系为温度 范围80-180℃,老化时间范围为5-60分钟。 6.依申请专利范围第1项所述之光学色转换膜制造 方法,其中用来制作网版之网材包括有特多龙、尼 龙、电铸板及钢板等,且该网材之网目为80-350mesh 。 7.依申请专利范围第1项所述之光学色转换膜制造 方法,其中该网版制作之步骤中,张网之角度为10-45 度。 8.依申请专利范围第1项所述之光学色转换膜制造 方法,其中该网版制作之步骤中,张网之张力范围 为15-35N∕cm2。 9.依申请专利范围第1项所述之光学色转换膜制造 方法,其中该乳剂层之厚度为5-100m。 10.依申请专利范围第1项所述之光学色转换膜制造 方法,其中该光学色转换薄膜之厚度为3-50m。 11.依申请专利范围第1项所述之光学色转换膜制造 方法,其中该乾燥处理步骤之乾燥温度范围系100- 160℃,而乾燥时间为20-60分钟。 图式简单说明: 第1图系本发明之流程图 第2图系本发明网版制作步骤中张网角度45度时之 张网状态示意图 第3图系本发明晒版成型步骤中所制成之网版的造 构示意图 第4图系本发明所制成之光学色转换膜的组成示意 图 |
