发明名称 |
DEVICE AND METHOD FOR THE WET-CHEMICAL PREPARATION OF HIGHLY PURE SOLID BODY SURFACES |
摘要 |
<p>Bekannt ist eine Präparationskammer, in der Festkörperoberflächen mit Flüssigkeiten in Kontakt gebracht oder elektrochemisch präpariert werden können. Diese Präparationskammer wurde mit einer UHVKammer für Photoelektronenspektroskopie kombiniert, womit sich Änderungen der Oberflächeneigenschaften beobachten lassen. Präparation und Analyse finden dabei sequentiell statt. Aufgabe ist eine Vorrichtung und ein Verfahren zur kontaminationsfreien nasschemischen Präparation von hochreinen Festkörperoberflächen und in-situ-Charakterisierung mit oberflächensensitiven oder kurzzeitspektroskopischen Methoden, die es ermöglichen, physikalische Prozesse an einer Probe in verschiedenen Umgebungen (Vakuum, Gas, Flüssigkeit) optisch zu untersuchen. Die Vorrichtung weist eine mit gereinigtem Gas über einen Gaseinlass (5) mit Ventil flutbare Hauptkammer (1) als Präparations- und Messraum, einen Probenmanipulator (13) mit einem Probenhalter (9), eine in der Hauptkammer (1) befüll- und verschiebbare Küvette (12) mit einem Flüssigkeitsauslass (11) und eine Turbopumpe (15) auf. Die Hauptkammer (1) ist zum Einschleusen von Proben aus einer separaten UHV-Kammer oder der Raumatmosphäre über ein UHV-Ventil (7c) mit einer UHV-Schleusenkammer (4) verbunden. Die Vorrichtung ist zur kontaminationsfreien nasschemischen Präparation von hochreinen, insbesondere vakuumpräparierten Festkörperoberflächen und in-situ-Charakterisierung mit oberflächensensitiven, z.B. Reflexions-Anisotropie-Spektroskopie, oder kurzzeitspektroskopischen Methoden, z.B. Pump-Probe-Spektroskopie mit Femtosekunden-Zeitauflösung geeignet.</p> |
申请公布号 |
WO2005090940(A1) |
申请公布日期 |
2005.09.29 |
申请号 |
WO2005DE00493 |
申请日期 |
2005.03.15 |
申请人 |
HAHN-MEITNER-INSTITUT BERLIN GMBH;ERNSTORFER, RALPH;HANNAPEL, THOMAS;KUBALA, SVEN;WILLIG, FRANK |
发明人 |
ERNSTORFER, RALPH;HANNAPEL, THOMAS;KUBALA, SVEN;WILLIG, FRANK |
分类号 |
G01N1/32;G01N23/22;H01J37/18;(IPC1-7):G01N1/32 |
主分类号 |
G01N1/32 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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