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经营范围
发明名称
POLISHING APPARATUS FOR WAFER
摘要
申请公布号
KR200397119(Y1)
申请公布日期
2005.09.29
申请号
KR20050019072U
申请日期
2005.06.30
申请人
发明人
分类号
H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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