发明名称 紫外光透过性含氟聚合物及由该聚合物制成的表膜
摘要 提供了对短波长的光具有良好的透过性及耐久性、能用于使用了KrF准分子激光等的光刻工序的表膜。该表膜是表膜的膜通过粘合剂与框体粘接而成的用于波长小于等于200nm的光的曝光处理的表膜,该表膜的膜及/或该粘合剂由含有下式(1)表示的重复单元的聚合物形成,Q表示直链结构的碳原子数1~3的多氟亚烷基等或选自该多氟亚烷基中的氢原子及氟原子的1个或1个以上的原子被可含醚性氧原子的多氟烷基形成的取代基取代的基团;X表示氢原子、氟原子或可含醚性氧原子的碳原子数1~3的多氟烷基。
申请公布号 CN1675191A 申请公布日期 2005.09.28
申请号 CN03819680.8 申请日期 2003.08.21
申请人 旭硝子株式会社 发明人 松仓郁生;冈本秀一;室谷英介;大春一也
分类号 C07D307/30;C08F34/02;G03F1/14 主分类号 C07D307/30
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 胡烨
主权项 1.一种表膜,它是表膜的膜通过粘合剂与框体粘接而成的用于波长小于等于200nm的光的曝光处理的表膜,其特征在于,该表膜的膜及/或该粘合剂由含有下式(1)表示的重复单元的聚合物形成,<img file="A038196800002C1.GIF" wi="421" he="188" />Q表示直链结构的碳原子数1~3的多氟亚烷基或选自该多氟亚烷基中的氢原子及氟原子的1个或1个以上的原子被可含醚性氧原子的多氟烷基形成的1价取代基取代的基团;该1价取代基存在2个或2个以上时,该2个1价取代基可共同构成由可含醚性氧原子的多氟亚烷基形成的2价取代基;X表示氢原子、氟原子或可含醚性氧原子的碳原子数1~3的多氟烷基。
地址 日本东京