发明名称 |
形成图案的方法,薄膜晶体管,显示设备及制法和应用 |
摘要 |
本发明的目的是提供显示设备,其中材料可用性得到增强和它能够通过简化该制造工艺来制造,和它的制造技术。本发明还有一个目的是提供一种技术,其中构成这些显示设备的布线或类似物的图案能够以优选的可控制性形成为具有所需的形状。根据本发明的形成图案的方法包括以下步骤:形成包括吸光材料的第一区域;通过用具有被该吸光材料吸收的波长的激光选择性地辐射该物质改性该基片的表面来形成第二区域;和通过将包括图案形成材料的化合物排放到第二区域上来形成图案。 |
申请公布号 |
CN1674227A |
申请公布日期 |
2005.09.28 |
申请号 |
CN200510054107.5 |
申请日期 |
2005.03.04 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
城口裕子 |
分类号 |
H01L21/027;G03F7/00;B41J2/01;H01L29/786;H01L21/336 |
主分类号 |
H01L21/027 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
陈季壮 |
主权项 |
1.形成图案的方法,包括:形成具有包括吸光材料的物质的第一区域;通过用具有被该吸光材料吸收的波长的激光选择性地辐射该第一区域改性该第一区域的表面来形成第二区域;和通过将包括图案形成材料的化合物排放到第二区域上来形成图案。 |
地址 |
日本神奈川 |