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METHOD AND SYSTEM FOR CONTEXT-SPECIFIC MASK INSPECTION
摘要
<p>A method for inspecting lithography masks includes generating integrated circuit design data and using context information from the integrated circuit design data to inspect a mask.</p>
申请公布号
EP1579274(A2)
申请公布日期
2005.09.28
申请号
EP20030764633
申请日期
2003.07.14
申请人
CADENCE DESIGN SYSTEM, INC.
发明人
PACK, ROBERT, C.;SHEFFER, LOUIS, K.
分类号
G06F7/60;G03F;G03F1/84;G03F9/00;G06F17/10;G06F19/00;(IPC1-7):G03F1/00
主分类号
G06F7/60
代理机构
代理人
主权项
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