发明名称 |
用于真空处理系统的传送处理室 |
摘要 |
一种用于一衬底处理工件的传送处理室,其包含具有侧墙的一主体,其中侧墙适于耦接到至少一处理室与至少一负载阻隔处理室。主体容纳一机械人手臂的至少一部分,该机械人手臂适合用于在处理室与负载阻隔处理室间加以传送衬底。一盖件耦接至传送处理室的主体的一顶部,并密封该顶部。传送处理室也具有一半球形底部,该半球形底部适于耦接至传送处理室的主体的底部,并密封该底部。 |
申请公布号 |
CN1675742A |
申请公布日期 |
2005.09.28 |
申请号 |
CN03819559.3 |
申请日期 |
2003.06.20 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
栗田真一;伊曼纽尔·比尔;阮·亨·T;温德尔·T·布隆尼格 |
分类号 |
H01L21/00;C23C14/56 |
主分类号 |
H01L21/00 |
代理机构 |
上海隆天新高专利商标代理有限公司 |
代理人 |
楼仙英 |
主权项 |
1.一种传送处理室,该传送处理室至少包含:具有侧墙的一主体,适于耦接至至少一处理室与至少一负载阻隔处理室,并容纳一机械人手臂的至少一部份,所述机械人手臂适于在所述至少一处理室与所述至少一负载阻隔处理室间,加以传送一衬底;一盖件,适于耦接至所述传送处理室的所述主体的一顶部部分,并密封所述顶部部分;及一半球形底部,适于耦接至所述传送处理室的所述主体的一底部部分,并密封所述底部部分。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |