用作光致抗蚀剂的具有带稠合4－元碳环的多环基团的氟化聚合物和用于微石印术的方法

摘要

本发明提供了一种新颖的含氟共聚物，它包含至少一种氟烯烃，至少一种带有稠合4－元碳环的多环烯不饱和单体，和任选的其它组分。聚合物可用作光成像组合物，特别是光致抗蚀剂组合物(阳图制版和/或阴图制版)，在制备半导体器械中用于成像。聚合物特别可用于具有高UV透明度(特别是在短波长处，如157纳米处)的光致抗蚀剂组合物中，作为光致抗蚀剂组合物的基料树脂，并可潜在地用于其它使用方面。

主权项

1.一种聚合物，它包含：a)从具有至少一个与烯不饱和碳原子共价连接的氟原子的烯不饱和化合物中衍生出来的至少一种重复单元；和(b)从具有下式结构的烯不饱和的化合物中衍生出来的至少一种重复单元：其中n是0，1或2；R1，R2，R3和R4独立地是H，OR5，卤素，任选地被卤素或醚氧基所取代的有1-10个碳原子的烷基或烷氧基，Y，C(Rf)(Rf’)OR5，R6Y或是OR6Y；Y是COZ或SO2Z；R5是氢或酸不稳定性保护基团；Rf和Rf’是相同的或不同的1-10个碳原子的氟代烷基，或它们结合在一起形成(CF2)m，其中m为2-10；R6是任选地被卤素或醚氧基取代的有1-20个碳原子的烯基；Z是OH，卤素或OR7；和R7是有1-20个碳原子的烷基，条件是R1，R2，R3和R4中的至少一种是Y，OR5，C(Rf)(Rf’)OR5，R6Y或OR6Y，和条件是若R1(或R3)是OH，则R2(或R4)不是OH或卤素。