| 发明名称 | 适用于印章的光敏垫及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种适用于印章的光敏垫及其制备方法。本发明光敏垫材料为一种微孔泡沫材料，组分包括：聚烯烃或其共聚物树脂、有机颜料光敏助剂、酚类抗氧剂、非离子表面活性剂和其他助剂。本发明的用于印章的光敏垫，孔径尺寸小、均匀性好，产品质量稳定。能够满足有关方面的需要。 | ||
| 申请公布号 | CN1672953A | 申请公布日期 | 2005.09.28 |
| 申请号 | CN200510024886.4 | 申请日期 | 2005.04.05 |
| 申请人 | 张志华;王卫荣 | 发明人 | 陆冲;王庆海;唐颂超 |
| 分类号 | B41K1/36;B41K1/00 | 主分类号 | B41K1/36 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 罗大忱 |
| 主权项 | 1.一种适用于印章的光敏垫，其特征在于，为一种微孔泡沫材料，组分和重量百分比包括：聚烯烃或其共聚物树脂 70～90％有机颜料光敏助剂 0.1～5％酚类抗氧剂 0.5～3％非离子表面活性剂 0.5～3％其他助剂 5～25％。 | ||
| 地址 | 200002上海市汉口路293号315室 | ||