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发明名称 THE METHOD OF FABRICATING THE SHORT LENGTH GAMMA GATE BY DIRECT ANGLE EVAPORATION OF SIO2 INSULATOR USING E-BEAM EVAPORATOR
摘要
申请公布号 KR20050094135(A) 申请公布日期 2005.09.27
申请号 KR20040019268 申请日期 2004.03.22
申请人 OH, CHANG SEOK 发明人 OH, CHANG SEOK
分类号 H01L21/336;(IPC1-7):H01L21/336 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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