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发明名称 CVD APPARATUS FOR DEPOSITION OF SILICON LAYER
摘要
申请公布号 KR100518509(B1) 申请公布日期 2005.09.26
申请号 KR19970059407 申请日期 1997.11.12
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 LEE, SEOK MIN
分类号 H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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