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发明名称
Verfahren zur chemischen Dampfablagerung von Wolfram auf einem Halbleitersubstrat
摘要
申请公布号
DE60022067(D1)
申请公布日期
2005.09.22
申请号
DE20006022067
申请日期
2000.12.28
申请人
AMI SEMICONDUCTOR BELGIUM BVBA, OUDENAARDE
发明人
VERCAMMEN, HANS;BAELE, JORIS
分类号
C23C16/14;G01Q30/12;H01L21/285;(IPC1-7):C23C16/14;C23C16/08
主分类号
C23C16/14
代理机构
代理人
主权项
地址
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