| 主权项 |
1.一种微影投影装置,其包含:-一辐射源,其用来供应一投影辐射束;-一支撑结构,其用来支撑图案形成构件,该图案形成构件用来使该投影束依据一所需图案来形成图案;-一基板平台,其用来支承一基板;-一投影系统,其用以将该具有图案之辐射束投射在该基板之一目标部分上;该辐射源进一步包含:○一照明系统,其用以调整该辐射束以提供一经调整之辐射束,以使其可以照明该图案形成构件;照明系统界定一可使该辐射束进入至该照明系统之入射平面;及○一光束传送系统,其包含重新导向元件,以将该投影束自一辐射源重新导向且传送至该照明系统;其特征在于-该光束传送系统包含一成像系统,其用以将该辐射束自一定位在距该入射平面一段距离处之物件平面成像于一接近或位在该入射平面处之成像平面。2.如申请专利范围第1项之微影投影装置,其中该成像系统系一1X成像系统。3.如申请专利范围第2项之微影投影装置,其中该成像系统包含一对透镜,该对透镜之每一透镜具有自该物件平面至该成像平面之距离之四分之一倍的焦距。4.如申请专利范围第1、2或3项之微影投影装置,其中该光束传送系统包含至少一可平移面镜,俾将该投影束沿至少一方向平移至一光束方向。5.如申请专利范围第4项之微影投影装置,其中两个可平移面镜定位在该光束传送路径上的相继位置上,其中一第一面镜将该光束沿一第一方向平移,且一第二面镜将该光束沿一第二方向平移,该第一及第二方向彼此横向且横向于该光束方向。6.如申请专利范围第4项之微影投影装置,其中该可平移面镜设置在该物件平面中。7.如申请专利范围第1、2或3项之微影投影装置,其中一可倾斜面镜定位在该成像系统之一物件平面中。8.如申请专利范围第7项之微影投影装置,其中该可倾斜面镜可在两不同方向上转动。9.如申请专利范围第7项之微影投影装置,其中该可倾斜面镜系可平移的。10.一种制造一元件之方法,其包含以下之步骤:-提供一基板,该基板至少部分地由一辐射敏感材料层所覆盖;-利用一辐射源来提供一辐射投影束;-将该投影束自该辐射源传送至一照明系统;-利用一照明系统来调整该投影束,该照明系统界定一可使该辐射束进入至该照明系统之入射平面;-利用图案形成构件来使该经调整之投影束在其截面上具有一图一案;及-将该具有图案之辐射束投影在该辐射敏感材料层之一目标部分上;其特征为该方法包含以下之步骤:-将该辐射束自一定位在距该入射平面一段距离处之物件平面成像于一接近或位在该入射平面处之成像平面。11.如申请专利范围第10项之方法,其中该方法包含将一可倾斜面镜定位在该辐射束之一物件平面中以控制该光束在该入射平面处之定位方向的步骤;其中该方法进一步包含藉由多个可平移面镜来反射该辐射束以控制该光束在该入射平面之位置的步骤。图式简单说明:图1描示一依照本发明之一实施例之微影投影装置;图2描示一依照习知技术之光束传送系统;图3描示一依照本发明之光束传送系统;图4详细描示将一倾斜之光束自一物件平面成像于一成像平面的视图;图5描示一显示可平移面镜之第一面镜组态的概要立体视图;图6描示一显示可平移面镜之第二面镜组态的概要立体视图。 |
