| 主权项 |
1.一种组立一薄膜电晶体基板与一彩色滤光片基 板的方法,该薄膜电晶体基板上有一容纳储存区( capacity storage area),该容纳储存区被设计对应于该 彩色滤光片基板的一黑色矩阵区之内,其中该薄膜 电晶体基板与该彩色滤光片基板经过一刷磨处理 后,该薄膜电晶体基板之该容纳储存区的一隆起物 造成一第一刷磨异常区域,该第一刷磨异常区域邻 近该隆起物的一侧,该方法至少包含: 偏移该彩色滤光片基板,以使得该彩色滤光片基板 之该黑色矩阵区的一黑色矩阵遮蔽该第一刷磨异 常区域;以及 将该薄膜电晶体基板与该彩色滤光片基板组立。 2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该刷磨处 理在该彩色滤光片基板之邻近该黑色矩阵区的地 方造成一第二刷磨异常区域,且该薄膜电晶体基板 与该彩色滤光片基板被组立之后,该第一刷磨异常 区域与该第二刷磨异常区域相互错开而不重叠。 3.一种组立一薄膜电晶体基板与一彩色滤光片基 板的方法,该薄膜电晶体基板上有一容纳储存区, 该容纳储存区被设计对应于该彩色滤光片基板的 一黑色矩阵区之内,其中该薄膜电晶体基板与该彩 色滤光片基板经过一刷磨处理后,该薄膜电晶体基 板之该容纳储存区的一隆起物造成一第一刷磨异 常区域,该第一刷磨异常区域邻近该隆起物的一侧 ,且该刷磨处理在该彩色滤光片基板之邻近该黑色 矩阵区的地方造成一第二刷磨异常区域,该方法至 少包含: 偏移该彩色滤光片基板,以使得该彩色滤光片基板 之该黑色矩阵区的一黑色矩阵遮蔽该第一刷磨异 常区域,且该第一刷磨异常区域与该第二刷磨异常 区域相互错开而不重叠; 将该薄膜电晶体基板与该彩色滤光片基板组立。 图式简单说明: 第1图是薄膜电晶体基板与彩色滤光片基板上下对 组之一部份截面图。 第2图系绘示角残像的现象。 第3A图系薄膜电晶体基板与彩色滤光片基板进行 上下对组时的俯视图。 第3B图系根据本发明的一较佳实施例彩色滤光片 基板在偏移后与薄膜电晶体基板进行上下对组时 的俯视图。 |
