发明名称 液晶显示装置之制造方法及液晶显示装置
摘要 本发明之目的系提供一种可修复亮点缺陷等各种缺陷画素之液晶显示装置之制造方法等。本发明之解决手段,系于液晶显示装置之制造方法中,其特征为同时具有:与具缺陷之该画素对应地,针对该每一画素至少有二个分别以机械方式连接的开关元件,使1个该开关元件选择性地电连接于该画素之步骤;及对具缺陷之该画素照射雷射光至少使该第1配向膜或该第2配向膜变质之步骤。
申请公布号 TWI240133 申请公布日期 2005.09.21
申请号 TW089122353 申请日期 2000.10.24
申请人 东芝股份有限公司 发明人 川田义高
分类号 G02F1/136;B23K26/00;H01L29/78 主分类号 G02F1/136
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种液晶显示装置之制造方法,其系具有: 在第1基板上至少形成第1电极及第1配向膜之步骤, 与 在第2基板上至少形成第2电极及第2配向膜之步骤, 与 在该第1基板及该第2基板之间使其具有液晶之状 态下将这些基板互相使其对向加以密封之步骤,与 在该第1电极与该第2电极之间使其具有电位差以 显示画面进行检查之步骤,与 修复所检测出之构成该画面之画素之缺陷部分之 步骤, 其特征为该修复步骤同时具有:与具缺陷之该画素 对应地,针对该每一画素至少有二个分别以机械方 式连接的开关元件,使1个该开关元件选择性地电 连接于该画素之步骤;及 对具缺陷之该画素照射雷射光至少使该第1配向膜 或该第2配向膜变质之步骤。 2.如申请专利范围第1项之液晶显示装置之制造方 法,其中使该第1配向膜或该第2配向膜变质之步骤, 系以进行使一个开关元件选择性地电连接于该画 素之步骤后该缺陷乃未被修复之画素作为对象予 以进行者。 3.如申请专利范围第1项或第2项之液晶显示装置之 制造方法,其中该雷射光,在将该开关元件与该画 素选择性地予以电连接之步骤时具有20ns至200ns之 脉冲宽度,在使该第1配向膜或该第2配向膜至少变 质之步骤时具有10ns以下之脉冲宽度。 4.一种液晶显示装置之制造方法,其系具有: 在第1基板上至少形成第1电极及第1配向膜之步骤, 与 在第2基板上至少形成第2电极及第2配向膜之步骤, 与 在该第1基板及该第2基板之间具有液晶之状态下 将彼等基板互相对向加以密封之步骤,与 在该第1电极与该第2电极之间使其具有电位差以 显示画面进行检测之步骤,与 对该检测所检测出之构成该画面之画素之中产生 缺陷部分之画素照射雷射光,至少使该第1配向膜 或该第2配向膜变质,以修复发生该缺陷之画素的 步骤, 其特征为该修复步骤具有:对发生该缺陷之画素将 具有较该画素尺寸更小照射面之脉冲状雷射光照 射成多数个该照射面成为互相分离之步骤,与 藉由该照射步骤,使该照射面之配向膜大致消失之 同时,对位于该照射面周边部之配向膜,藉由该雷 射光具有之能量使以该照射面为中心以波纹状堆 积飞溅物,藉由堆积成波纹状之该飞溅物与该消失 ,使发生该缺陷之画素对光之透过率或反射率较该 雷射光照射前降低的步骤。 5.一种液晶显示装置,其系具有: 第1基板,至少形成有第1电极及第1配向膜;与 第2基板,至少形成有第2电极及第2配向膜;与 液晶,被密封于该第1基板与该第2基板之间,并且, 依据被赋予该第1配向膜及该第2配向膜之配向性 而排列成特定方向;与 多数个画素,其可以对应该第1电极与该第2电极之 间所施加电压而发生之电位差,依据该配向性使该 液晶对光之透过率或反射率发生变化的液晶显示 装置; 其特征为: 该多数个画素,系具有;对应于彼等画素而依该每 一个画素分别设置之至少二个开关元件,同时 该多数个画素之中至少一个,系具有藉由雷射光照 射可使该第1配向膜或该第2配向膜至少变质之部 分。 6.一种液晶显示装置,其系具有: 第1基板,至少形成有第1电极及第1配向膜;与 第2基板,至少形成有第2电极及第2配向膜;与 液晶,被密封于该第1基板与该第2基板之间,并且, 依据被赋予第1配向膜及该第2配向膜之配向性而 排列成特定方向;与 多数个画素,其可对应该第1电极与该第2电极之间 所施加电压而产生之电位差,依据该配向性使该液 晶对光之透过率或反射率发生变化的液晶显示装 置; 其特征为具有: 具有较彼等画素之尺寸更小照射面之脉冲状雷射 光被照射成使多数个该照射面互相分离,至少二个 该照射面之配向膜大略消失之部分,及 和该照射面周边部之配向膜对应地,以该照射面作 为中心藉由该雷射光所具备能量堆积飞溅物而呈 现波纹状之部分。 图式简单说明: 第1图系表示本发明之液晶显示装置。 第2图系表示本发明之液晶显示装置之第1图中之Y- Y线之剖面图。 第3图系表示本发明之全体液晶显示装置之概略构 成图。 第4图系用来说明本发明之液晶显示装置之显示原 理之斜视图。 第5图系表示木发明之全体雷射修复装置之概略构 成图。 第6图系表示本发明之LD之施加电流与雷射光之脉 冲宽度之关系及对于LD之施加电流与雷射光所具 之能量之关系之图表。 第7图系表示本发明之液晶显示装置之制造方法之 雷射光之照射状态之剖面图。 第8图系表示雷射光之缺陷画素之位置关系之概略 斜视图。 第9图系表示雷射光之缺陷画素之位置关系之概略 斜视图。 第10图(a)系表示使其重叠时之雷射光之各照射面 间之位置关系之上面放大图,(b)系表示使其离开时 之雷射光之各照射面间之位置关系之上面放大图, 第11图(a)系表示于第10图(a)之每单位面积之上面放 大图,(b)系于第10图(b)之每单位面积之上面放大图 。 第12图(a)系依本发明之液晶显示装置之制造方法 之受到雷射照射之部位之放大上面图,(b)系以第12( a)之X-X'线所视之剖面图。 第13图系表示P/d与透过率T之关系之图表。 第14图系表示P/d与照射能量E之关系之图表。 第15图系表示于本发明之液晶显示装置之画素电 极与主TFT及副TFT之关系之上视图。 第16图系表示连接第15图之主TFT与画素电极之配线 为由雷射光所切断状态之上视图。 第17图系表示连接第15图之副TFT与画素电极之配线 为由雷射光所连接状态之上视图。 第18图系以第18图之A-A'线所视之剖面图。 第19图系表示第15图至第17图之一系列步骤之流程 图。
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