| 主权项 |
1.一种墙面基模结构改良,该墙面基模系呈一板块 状,两面均设有数个间隔排列的凹槽;其特征为:该 所述凹槽具有倾斜角度者。 2.依据申请专利范围第1项所述之墙面基模结构改 良,其中该墙面基模可为各侧厚度相等之结构型态 。 3.依据申请专利范围第1项所述之墙面基模结构改 良,其中该墙面基模可为相对二侧厚度不相等之结 构型态。 4.依据申请专利范围第1项所述之墙面基模结构改 良,其中该墙面基模的至少一面上更可凸设有一基 准凸缘。 5.依据申请专利范围第1项所述之墙面基模结构改 良,其中该墙面基模两面之凹槽位置可为相对称、 或相错置的分布型态。 图式简单说明: 第1图:系本创作墙面基模较佳实施例型态之立体 图。 第2图:系本创作墙面基模较佳实施例型态贴设于 水泥墙面之平面图。 第3图:系为第2图之A部位放大示意。 第4图:系本创作墙面基模另一较佳实施例型态贴 设于水泥墙面之平面图。 第5图:系本创作墙面基模贴设于水泥墙面之分布 状态立体示意图。 第6图:系本创作墙面基模之基准凸缘配合铅锤线 使用之平面示意图。 第7图:系本创作墙面基模之凹槽型态变化实施例 图一。 第8图:系本创作墙面基模之凹槽型态变化实施例 图二。 |
